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真空镀膜工艺在信息存储范畴中的运用薄膜资料作为信息记载于存储介质，有其得天独厚的优势：因为薄膜很薄能够疏忽涡流损耗；磁化回转极为敏捷；与膜面平行的双稳态状况简单保持等。为了更精细地记载与存储信息，必定要选用镀膜技能。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。在涂层前一定要清洗产品，避免污染产品，确保表面的清洁度。

(1)取下阳极氧化，加去杂水5ml/l，加温60—70度C，气体拌和2钟头。(手头上无牢固去杂剂时不需加)。

(2)有机化学杂质多时，先报名参加3—5ml/lr的30%解决，气拌和3钟头。

(3)将3—5g/l粉状特异性在持续拌和下报名参加，再次气拌和2钟头，关拌和静放4钟头，过虑，一起清缸。

(4)清理维护保养阳极氧化挂回。

(5)用镀了镍的瓦楞纸形不锈钢板作负极，在0.5—0.1安/平方分米的电流强度下开展电解法，直到压型板表面变化为灰白色(类似暗镍颜色)才行，此系统进程约4—12钟头，杂质太多需时更长。电解法时会必需打开气体拌和或负极挪动，以发展解决实际效果。

(6)解析调节各主要参数、报名参加解决理中遗失的一部分防腐剂、湿冷剂，必需时开展霍耳槽试验，及格后就可以试镀。

真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件须在电镀前仔细清洗。真空镀膜技术为制造各种各样的清洁表面提供了手段。这些薄膜的制备均为科学的研究和发展提供充分的条件。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。

真空镀膜加工均匀性的概念：

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜加工均匀性。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，薄膜，如果镀膜过程不科学，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜加工的技术含量所在。

3.晶格有序度的均匀性