2分钟前 惠州平板曝光显影加工定制货真价实 清溪利成感光[利成感光38dbdb8]内容：曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准，再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间，固定后进行曝光。3D玻璃显影曝光技术在HW mateRs用到了此技术，曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，
曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。
预喷淋（pre-wet）：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水（Deionizedwater，DIW）。蚀刻产品线条变粗。所以的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。目前以蓝思、伯恩、比亚迪等为首的加工商在探索验证小批量产。3D玻璃遮蔽可以移印，贴合，曲面角度小还是可以做贴合工艺；还有就是曝光显影；比如vivo X21，是中间贴膜，四周用喷墨曝光显影补线方式。
将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上，正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，就可以显现出光刻胶中的图形，曝光一般在曝光机内进行，曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。为了让显影液与光刻胶进行充分反应
