该装置由汽化炉、分解炉、重合室这3个部分组成,在重合室中放置对象物品,在汽化炉中放置Parylene (粉体)。
在装置内进行减压操作后,升高汽化炉的温度(120~180℃),使Parylene升华。 通过真空泵将该气体引导至蒸汽粘合室,通过高温(650~700℃)分解炉后,生成热分解单体。该单体在室温状态下的重合室内与对象物品相接触,其含有的热量被传导后在对象物品的表面进行聚合,形成高分子量的聚对二树脂膜。
原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种,化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止,适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。
目前可以沉积的材料包括:氧化物,氮化物,氟化物,金属,碳化物,复合结构,硫化物,纳米薄层等。 中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,微机电系统(MEMS)的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层,纳米晶体,ZnSe涂层,纳米结构,中空纳米碗,存储硅点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层。